แคนนอนพัฒนาเครื่อง nanoimprint สามารถผลิตชิประดับ 5 นาโนเมตรได้
เมื่อเร็วๆ นี้ แคนนอนออกมาประกาศความสำเร็จในการพัฒนาเครื่อง nanoimprint lithography (NIL) ซึ่งว่ากันว่ามีศักยภาพในการผลิตชิปในระดับ 5 นาโนเมตรได้ และหากมีการปรับแต่งเพิ่มเติมก็จะสามารถผลิตชิปในระดับ 2 นาโนเมตรเลยทีเดียว
นี่ถือเป็นอีกหนึ่งก้าวสำคัญของเทคโนโลยีการผลิตชิป ซึ่งในปัจจุบันบริษัท ASML ครองความเป็นผู้นำด้วยเครื่อง ultraviolet lithography (EUV) ซึ่งใช้ในกระบวนการผลิตชิปที่มีขนาดเล็กกว่า 7 นาโนเมตร
แคนนอนระบุว่าเทคโนโลยี nanoimprint ที่นำมาใช้นั้นมีความแม่นยำสูง โดยไม่ต้องมีกลไกที่ซับซ้อน ต่างจากเครื่องของ ASML ที่ใช้แสงอัตราไวโอเลตในการผลิต
ที่มา : theregister